尊龙凯时

        PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），，，，，通过MOSI层产生180°的相位差以降低光的衍射作用，，，，，从而提高掩模图形分辨率

        相移掩模技术利益：削减邻近效应，，，，，利用光的有关性，，，，，抵消部门衍射扩大效应，，，，，扭转空间光强散布，，，，，使更多的能量从低频分配到高频上，，，，，添补投影物镜通低频阻高频的弊端，，，，，提高空间图像的反差，，，，，扭转像质，，，，，使分辨率和焦深增大